掩膜版是光刻工藝微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版，是心技平板顯示、半導體、術之升級好配资平台觸控、掩膜業(yè)電路板等行業(yè)生產(chǎn)制造過程中重要的版行關鍵材料。隨著AI、望迎自動駕駛等領域發(fā)展，技術機遇掩膜版行業(yè)將迎來技術升級機遇。光刻工藝

　　半導體掩膜版與光刻機是心技好配资平台芯片制造過程中高度協(xié)同的核心要素，二者共同構(gòu)成光刻工藝的術之升級技術支柱。作為光刻復制圖形的掩膜業(yè)基準和藍本，掩膜版是版行連接工業(yè)設計和工藝制造的關鍵，掩膜版的望迎精度和質(zhì)量水平會直接影響最終下游制品的優(yōu)品率。根據(jù)多方機構(gòu)預測需求綜合研判，技術機遇預計2025年國內(nèi)半導體掩膜版市場規(guī)模在約為187億人民幣，光刻工藝其中晶圓制造用掩膜版預計為100億元人民幣，封裝用掩膜版預計為26億元人民幣，其他器件用掩膜版為61億元人民幣。目前國內(nèi)廠商掩膜版營收體量整體來說相對較低，各廠商正處于技術持續(xù)升級、新高端產(chǎn)能即將陸續(xù)釋放、半導體掩膜版滲透率由1走向N的階段。

　　據(jù)財聯(lián)社主題庫顯示，相關上市公司中：

　　清溢光電半導體芯片掩膜版技術方面，公司已成功實現(xiàn)180nm工藝節(jié)點半導體芯片掩膜版的量產(chǎn)，并完成了150nm工藝節(jié)點掩膜版的小規(guī)模量產(chǎn)。

　　路維光電表示，公司在二季度下游需求旺盛，生產(chǎn)接近滿載。公司正加快在平板顯示掩膜版以及半導體掩膜版的投資節(jié)奏，多個擴產(chǎn)項目有條不紊推進。

（文章來源：財聯(lián)社）